Ondo Beauty 36.5 HYALURONIC ACID & ALGAE MOISTURE BOOSTING MASK CHOK-CHOK

„Chok-Chok“ v populárnom kórejskom slove, ktoré opisuje žiarivú pokožku s vysokou hydratácie. Táto biologicky odbúrateľná tkanivová maska je ideálna pre tých, ktorí majú dehydrovanú pokožku a chcú zvýrazniť vnútornú žiaru a dosiahnuť efekt kórejskej sklenenej pokožky. Posilňujúca maska Hyaluronic Acid & Algae Moisure obsahuje 88% hamamelovej vody, známej tiež ako Hamamelis, ako hlavnú aktívnu zložku na upokojenie pleti, čistenie a minimalizáciu rozšírených pórov. Komplex morských rastlín so 7 druhmi výťažkov z rias a Sea Daffodil (morská rastlina) obohacuje pokožku životne dôležitými živinami. Niacínamid, derivát vitamínu B3, upokojuje a rozjasňuje pokožku a zabraňuje vzniku tmavých škvŕn. Aquaxyl pomáha optimalizovať tok vody v pokožke, kontrolovať cirkuláciu vody a rezervy, čím poskytuje účinok „antidehydratačného štítu“ s viditeľnými účinkami za 8 hodín.

 

Naneste na vyčistenú tvár. Odstráňte po 10-15 minútach a zvyšné sérum vmasírujte do pokožky, kým sa úplne nevstrebe. Neoplachujte. Chok Chok maska sa môže použiť na prípravu pokožky na make-up, pretože pomáha zlepšiť textúru pokožky.

 

 

Maritimum Extract, Sodium Hyaluronate, Xylitol, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Allantoin, Magnesium PCA, Zinc PCA, Sodium PCA, Tocopherol, Citrus Aurantium Bergamia (Bergamot) Fruit Oil, Rosmarinus Officinalis (Rosemary) Leaf Oil, Betaine, Aqua (Water/Eau), Butylene Glycol, Caprylyl Glycol, Pentylene Glycol, Polyglyceryl-10 Laurate, Sodium Phytate, Xanthan Gum, Ethylhexylglycerin, Carbomer, Tromethamine, Limonene*. *Naturally occurring in essential oils